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    美升級對中晶片圍堵戰 華府施壓荷、日對中停售曝光機

    2022-07-06 16:18 / 作者 陳家齊

    美國正在擴大遏制中國崛起的行動,知情人士透露,華府已向荷蘭施壓,要求其禁止艾司摩爾(ASML)向中國出售生產全球大量晶片所需的技術較舊、但仍是主流生產技術的曝光機。




    圖片
    艾司摩爾在德國廠房。彭博新聞




    華盛頓提議的禁售將使現有對中國的技術出口管制進一步擴大,意在挫敗中國成為全球晶片生產領導者的計畫。如果荷蘭政府同意,禁止輸往中國的晶片製造設備範圍和類別將大幅拓寬,從而可能令中芯國際和華虹半導體等晶片製造商受到沈重打擊。



    知情人士說,美國官員正在游說荷蘭當局禁止ASML出售一些舊款的深紫外線(DUV)曝光機。這些機器比先進技術落後了一代,但仍然是製造汽車、手機、電腦乃至機器人所需的某些非先進晶片的最常用設備。



    彭博報導發布後,ASML的美國存託憑證(ADR)5日跌幅高達8.3%,為2020年3月以來最大盤中跌幅在晶片製造設備領域比ASML較小的競爭對手尼康(Nikon)一度下跌8.6%。中芯國際和華虹半導6日在香港下跌2%左右。



    分析師稱,全面禁止ASML向中國出口DUV曝光機可能性不大。Evercore ISI的分析師CJ Muse表示,最有可能的結果是繼續限制EUV曝光機出口,但全面禁止ASML對華出口DUV產品不太可能。



    不願公開身份的知情人士稱,美國商務部副部葛瑞夫茲(Don Graves)5月底到6月初訪問荷蘭和比利時討論供應鏈問題時提出了這一要求。葛瑞夫茲還拜訪了ASML的總部,與該公司執行長溫彼得(Peter Wennink)會談。



    知情人士說,荷蘭政府尚未同意對ASML向中國晶片製造商的出口實施任何額外限制,因此舉可能會損害與中國的貿易關係。由於無法獲得荷蘭政府的出口許可,ASML已經無法向中國出口其最先進、每台售價約1.6億歐元的極紫外線(EUV)曝光機。



    彭博研究估計,如果禁止ASML在中國銷售DUV曝光機,可能會減少5-10%銷售額。由於ASML的收入已經反映禁止向中國出口EUV曝光機的影響,因此與應用材料公司(Applied Materials)等同行相比,若DUV技術禁令縮緊,該公司受到的影響可能較小,而應材則有25-30%的銷售額仰賴中國市場。



    與更先進的EUV相比,老一代DUV曝光機的能力較低,但在製造目前嚴重短缺的許多晶片上仍然必不可少。知情人士稱,華盛頓的首要目標是禁售最先進的DUV技術,即浸潤式DUV曝光機。



    其中一位知情人士稱,美國官員也在努力向日本施壓,要求停止向中國晶片製造商交付相同技術。日本的尼康(Nikon)在這一領域是ASML的競爭對手。



    中國是荷蘭的第三大貿易伙伴,僅次於德國和比利時。荷蘭總理呂特6月時反對重新限制與中國的貿易關係,並呼籲歐盟制定自己的對華政策。



    ASML的執行長溫彼得今年稍早也對禁止向中國客戶銷售DUV表態反對,他說這已經是項成熟的技術。根據公司披露文件和彭博匯總數據,2021年ASML在中國工廠貢獻了公司總營收的14.7%。



    台灣經濟研究院的分析師Johnson Wang表示,曝光機設備是中國半導體生產中最難替代的設備。「如果拿不到國外的DUV曝光機,中國晶片產業的發展可能會停滯不前。」





     


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