傳美光獲日本注資447億生產先進晶片　廣島廠將首度引進EUV曝光機

彭博新聞報導，美國美光科技（Micron）將從日本政府獲得約2000億日圓（約447億元台幣）資金挹注，在日本生產下一代記憶晶片，並將首度引進極紫外光（EUV）曝光機到日本。這將是日本致力提升國內半導體生產的又一舉措。

報導引述知情人士稱，美光科技將使用這筆資金，在廣島工廠安裝荷蘭艾司摩爾（ASML）的EUV先進晶片製造設備，將用於生產DRAM晶片。

日本首相岸田文雄今天（5/18）會見美光科技執行長Sanjay Mehrotra等晶片行業高層代表團時，可能宣布這項計畫。

消息傳出後，日本東京電子（Tokyo Electron Limited，TEL）率晶片製造設備供應商大漲，特別是提供支持EUV設備或技術的供應商。

報導指出，隨著中美緊張局勢升溫，日本致力於發展本國的半導體產業，對台灣晶片生產形成後備力量。

日本政府已斥資數十億美元，鼓勵台積電增加日本當地產能，並向日本晶片合資公司Rapidus Corp.提供資金支持，盼於2027年達到生產2奈米晶片白的目標。

日本政府與美光科技的這項合作，將是首次將EUV設備引進日本，朝向生產先進晶片的目標邁進一大步。

此外，拜登政府對中國晶片相關出口實施全面限制後，中國也對美光科技產品展開網路安全審查，可能影響其晶片在中國銷售。目前中國市場占美光銷售額的11%左右。如今美光科技傳出可能與日本政府合作，也是對中方行動做出的反應。七大工業國集團（G7）將於明天（5/19）起在廣島召開三天，岸田文雄將接待美國總統拜登等各國領袖。

倫敦研究機構Omdia的分析師Akira Minamikawa表示：「G7集團一心要加強半導體晶片供應鏈，美光科技的廣島工廠將發揮關鍵作用……此處是美光科技舉足輕重的據點。」

Minamikawa表示，美光科技廣島工廠匯聚該公司多名優秀工程師。日本經濟產業省去年曾表示，將向美光科技提供465億日圓（約104億元台幣）資金，以提升廣島工廠產能。