彭博：荷蘭最快下週宣布半導體設備管制　阻ASML出口中國

彭博新聞今（6/23）報導，荷蘭政府最快將於本月30日宣布新的出口管制，限制半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）的先進曝光機出口至中國。

報導指出，荷蘭政府先前曾承諾，今夏前會公布新的半導體設備出口限制，當中不會明指中國和艾司摩爾，但效果將能限制3款浸潤式深紫外光曝光機（DUV）輸往中國。知情人士表示，荷蘭立法者已制定相關出口管制法規，並可供其他歐盟成員國參考，最快將在6月30日或7月第1週公佈。

據彭博新聞先前報導，艾司摩爾被限制的3款浸潤式DUV，型號為TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i。浸潤式DUV是僅次於極紫外光曝光機（EUV）的先進半導體製造設備；艾司摩爾今年3月已被禁止向中國出口EUV，未來要出口浸潤式DUV，將必須先申請核可。

美國拜登政府一直在向荷蘭、日本等盟國施壓，要求協助阻止中國發展晶片產業、推動人工智慧和量子計算等科技以強化軍力。美國推出了廣泛的出口管制，限制美企向中國公司出口先進半導體技術；美、荷、日是全球半導體設備三大巨頭，後兩者今年1月原則上同意加入美國的行動。

但荷蘭祭出出口限制的步調不算快。繼1月同意後，荷蘭 3月才宣布禁止艾司摩爾的EUV出口中國，貿易部長施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）說「出於國安和國際安全的考量，有必要盡快控制這項技術出口」。而今又到了6月底才要宣布限制浸潤式DUV。

艾司摩爾是荷蘭最有價值的公司，而中國是艾司摩爾大客戶之一。荷蘭政府的兩難，某程度和艾司摩爾執行長韋尼克（Peter Wennink）是一樣的：不願得罪美國，又需要設法保護重大營收來源。

艾司摩爾先前表示，這些限制不會衝擊公司今年、或更長期的財務狀況。不過，韋尼克今年1月受訪時說，美國主導的管制措施，反而可能導致中國成功開發出自己的先進晶片設備技術，「你給他們的壓力越大，他們就越可能加倍努力」來製造堪比艾司摩爾產品的曝光機。