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    【輝達GTC】台積電、新思採用NVIDI運算式微影平台  推進2奈米製程

    2024-03-19 06:06 / 作者 陳俐妏
    台積電、新思採用NVIDI運算式微影平台  推進2奈米製程。資料照
    AI霸主輝達(NVIDIA)GTC大會登場,輝達創辦人黃仁勳坐鎮發表AI主題演講!輝達也公布台積電和新思科技已將NVIDIA cuLitho 整合至其軟體、製造流程和系統中,以加快晶片製造, cuLitho 的加速運算和生成式 AI 緩解成本和瓶頸,以便在開發 2 奈米及更進階的新技術時設計出更新穎的解決方案。

    輝達創辦人暨執行長黃仁勳表示,運算式微影是晶片製造的基石,輝達與台積電和新思科技合作,將cuLitho應用於加速運算和生成式人工智慧(AI)開拓半導體微縮的新領域。運算式微影是半導體製造過程中最需要運算資源的工作負載,每年在 CPU 上消耗數百億小時。

    黃仁勳指出,作為晶片生產的關鍵步驟,一組典型的光罩可能需要 3,000 萬或更多小時的 CPU 運算時間,半導體代工廠內因此需要建立大型資料中心。透過加速運算,350 個 NVIDIA H100 系統現在可以取代 40,000 個 CPU 系統,加快生產時間,同時降低成本、空間和功耗。

    台積電總裁魏哲家表示,台積電與 NVIDIA 合作,將 GPU 加速運算整合到台積電工作流程中,從而實現了效能大幅的躍升、顯著提高了生產率、縮短週期時間以及降低功耗需求。台積電正在將 NVIDIA cuLitho 投入到台積電的生產,利用此運算式微影技術驅動半導體微縮的關鍵組件。

    自去年推出以來,cuLitho 使台積電為創新圖案化技術開闢了新的機會。在共享工作流程上測試 cuLitho 時,兩家公司共同於曲線流程實現 45倍加速並於更傳統的曼哈頓流程實現近 60 倍的改善。這兩種類型的流程不同:使用曲線時,光罩圖形由曲線表示,而曼哈頓光罩圖形則被限制為水平或垂直。

    新思科技總裁暨執行長 Sassine Ghazi 表示,新思與台積電和 NVIDIA 的合作對於實現埃米等級的微縮至關重要,因為開創了先進技術,透過加速運算的力量大幅縮短週轉時間。
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